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潘琪 主任醫(yī)師 教授 中山大學(xué)孫逸仙紀(jì)念醫(yī)院 神經(jīng)外科
兩側(cè)額頂葉局部腦溝稍增深是一種影像學(xué)表現(xiàn)，通常在頭顱CT或MRI檢查中發(fā)現(xiàn)。這種表現(xiàn)可能是正常的生理變異，也可能與某些疾病有關(guān)。以下是一些可能的原因：
-形態(tài)發(fā)育：腦溝的深度和形態(tài)在不同的個(gè)體之間可能會(huì)有所差異。在某些情況下，腦溝可能會(huì)稍增深。
-腦萎縮：腦萎縮是指大腦體積的縮小，通常與衰老、神經(jīng)系統(tǒng)疾病或其他因素有關(guān)。腦萎縮可能導(dǎo)致腦溝增深。
-腦部病變：某些腦部病變，如腦梗死、腦出血、腦部感染或腫瘤等，也可能導(dǎo)致局部腦溝增深。
-其他因素：遺傳因素、發(fā)育異常、頭部外傷等也可能與兩側(cè)額頂葉局部腦溝稍增深有關(guān)。
總之，兩側(cè)額頂葉局部腦溝稍增深可能是正常的生理變異，也可能與某些疾病有關(guān)。如果對(duì)檢查結(jié)果有疑慮，建議及時(shí)咨詢醫(yī)生，以便獲得更詳細(xì)和個(gè)性化的建議。
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