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潘琪 主任醫(yī)師 教授 中山大學孫逸仙紀念醫(yī)院 神經(jīng)外科
雙側(cè)額葉皮下多發(fā)腔隙灶是一種常見的腦部影像學表現(xiàn)，通常在進行頭顱CT或MRI檢查時被發(fā)現(xiàn)。
腔隙灶是指腦部組織中的小缺血性病變，由于缺血導致局部腦組織壞死、液化并被吞噬細胞清除，從而形成小的空腔，即腔隙灶。這些腔隙灶通常很小，直徑一般不超過15毫米。
雙側(cè)額葉皮下多發(fā)腔隙灶的形成可能與多種因素有關，如高血壓、糖尿病、高血脂、動脈硬化等。這些因素導致腦部血管狹窄或閉塞，引起相應區(qū)域的腦組織缺血缺氧，進而發(fā)生壞死和液化。
雙側(cè)額葉皮下多發(fā)腔隙灶通常不會引起明顯的臨床癥狀，但在某些情況下，如腔隙灶較大或位于重要功能區(qū)時，可能會出現(xiàn)頭痛、頭暈、記憶力減退、注意力不集中等癥狀。
總之，雙側(cè)額葉皮下多發(fā)腔隙灶是一種常見的腦部影像學表現(xiàn)，通常不會引起明顯的臨床癥狀，但需要注意控制其病因，以預防其進一步發(fā)展。
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